渕上ミクロのフォトマスク 株式会社渕上ミクロ
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BGAマスク

ディスプレー用マスク

micronic

渕上ミクロはクロムマスクからエマルジョンマスクまで、それぞれの用途に適した高精度な製品を最新の露光装置と検査装置を駆使して短納期でお届けしています。

 

フォトマスク精度一覧

 

高精度フォトプロッタ

高精度クロム直描機

ビーム径

4μm

2.5μm

走査ピッチ

2μm/1μm

0.25μm

位置検出

レーザー干渉

レーザー干渉

線幅精度

±3μm

≦0.8μm(3σ)

ピッチ精度

±3μm

≦2μm(3σ)

最小線幅

10μm(15μm)

≦6μm

描画サイズ(mm)

610 x 819

800 x 800

感     材

リス/ハイレゾ

エマルジョン/クロム

描画速度

610 x 819
210 min

800 x 800
エマルジョン = 213 min
クロム = 639 min

 


 

測長機

自動外観検査機

測長機

外観検査機